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Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization

Sprache EnglischEnglisch
Buch Hardcover
Buch Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization Jea-Gun Park
Libristo-Code: 06708211
Verlag Taylor & Francis Inc, Februar 2009
Explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the chemical mech... Vollständige Beschreibung
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Explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the chemical mechanical planarization (CMP) process, including dielectric CMP, shallow trend isolation CMP, metal CMP, poly isolation CMP and noble metal CMP. This work also presents design techniques using polymeric additives to improve CMP performance.

Schauspielerin & Polyglotte
EWA KASP für
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Ewa Kasp
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Informationen zum Buch

Vollständiger Name Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization
Autor Jea-Gun Park
Sprache Englisch
Einband Buch - Hardcover
Datum der Veröffentlichung 2009
Anzahl der Seiten 224
EAN 9781420059113
ISBN 9781420059113
Libristo-Code 06708211
Verlag Taylor & Francis Inc
Gewicht 570
Abmessungen 156 x 234 x 20

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Technologie, allgemein > Nanotechnologie
Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Industrielle Chemie und Fertigungstechnologien > Industrielle Chemie und Chemietechnologie
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