Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Name: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Brand: Taylor & Francis Ltd
SKU: 43909170
Price: 235.19 EUR
Availability: InStock
Author: Oluwatobi Adeleke
ISBN: 9781032386706

Oluwatobi Adeleke

Sina Karimzadeh

Jen

Tien-Chien (University of Johannesburg

South Africa)

Sprache

Englisch

Buch Hardcover

Libristo-Code: 43909170

Verlag Taylor & Francis Ltd, Dezember 2023

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit... Vollständige Beschreibung

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576 b

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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

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Informationen zum Buch

Vollständiger Name Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Autor Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)

Sprache

Englisch

Einband Buch - Hardcover

Datum der Veröffentlichung 2023

Anzahl der Seiten 496

EAN 9781032386706

Libristo-Code 43909170

Verlag Taylor & Francis Ltd

Gewicht 662

Abmessungen 156 x 234

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Elektronik, Nachrichtentechnik > Elektronik > Regelungstechnik

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Technologie, allgemein > Ingenieurswesen, Maschinenbau allgemein

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Maschinenbau und Werkstoffe > Materialwissenschaft

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