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Atomic Layer Deposition

Name: Atomic Layer Deposition
Brand: John Wiley & Sons Inc
SKU: 04949772
Price: 182.49 EUR
Availability: InStock
Author: Tommi Kaariainen
ISBN: 9781118062777

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Tommi Kaariainen

David Cameron

Marja-Leena Kaariainen

Arthur Sherman

Sprache

Englisch

Buch Hardcover

Libristo-Code: 04949772

Verlag John Wiley & Sons Inc, Juni 2013

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Vollständige Beschreibung

Libristo-Code: 04949772

447 b

182.49 € inkl. MwSt.

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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Informationen zum Buch

Vollständiger Name Atomic Layer Deposition

Autor Tommi Kaariainen, David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Arthur Sherman

Sprache

Englisch

Einband Buch - Hardcover

Datum der Veröffentlichung 2013

Anzahl der Seiten 272

EAN 9781118062777

ISBN 1118062779

Libristo-Code 04949772

Verlag John Wiley & Sons Inc

Gewicht 582

Abmessungen 240 x 164 x 25

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Maschinenbau und Werkstoffe > Materialwissenschaft > Technische Anwendung von Oberflächenbeschichtungen und -filmen

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Elektronik, Nachrichtentechnik > Elektronik > Elektronische Geräte und Materialien

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Technologie, allgemein > Nanotechnologie

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